专利摘要:
LED装置の製造方法を提供する。本方法では、分離バッフル(12、27、38)によりLEDの発光面とボンディングワイヤ領域(13、39)とを隔て、これにより蛍光体被覆工程で蛍光体が発光面だけに被覆される。この方法はLED装置のフリップチップ構造体又は垂直チップ構造体に適用できる。この方法は白色光LEDを直接製造でき、パッケージ工程で蛍光体を使用する必要がなく、白色光LEDの製造工程は簡単化される。
公开号:JP2011513946A
申请号:JP2010547023
申请日:2008-05-27
公开日:2011-04-28
发明作者:樊邦弘;翁新川
申请人:鶴山麗得電子實業有限公司;
IPC主号:H01L33-50
专利说明:

[0001] 本発明は、LED装置の製造方法、特に、製造途中のLED装置の発光面を、ボンディングワイヤ領域等の他の領域から隔て、発光面上だけに蛍光体を被覆するLED装置の製造方法に関する。]
背景技術

[0002] 発光ダイオード(LED)は、半導体材料でできた順方向バイアスされるPN接合ダイオードである。PN接合ダイオードの端子間が順方向にバイアスされると、非平衡キャリア(電子‐正孔対)の再結合により発光する。この発光プロセスは、自発的な発光プロセスと概ね同じである。LEDを製造するための材料は、高濃度にドープされて、PN接合が形成され、熱平衡状態においてn型領域は過剰な数の自由電子を有し、p型領域は過剰な数の正孔を有する。PN接合に亘って自発的に空乏領域が形成され、空乏領域は電子と正孔との再結合を防ぐ。PN接合が十分な電圧で順方向バイアスされると、この空乏領域は狭くなり、電子は空乏領域の電界に打ち勝ってPN接合を通過し、PN接合のp型領域側に注入される。次に、電子は正孔と出会い再結合し、これにより発光する。]
[0003] 通常、従来の発光ダイオード(LED)は、基板上にn型半導体材料層、発光層、及びp型半導体材料層を含む積層構造体を形成することで製造される。従来のLEDは、様々な所望の波長の光を発するために様々な材料と構造とを採用する。例えば、青色と緑色のLEDは通常、サファイアを基板として、GaInNエピタキシャル構造体を積層構造体として使用する。サファイアを基板として使用するので、従来の発光ダイオードのアノードとカソードは基板の同じ側に形成される。図1を参照すると、n型GaN層5、発光層4、p型GaN層3、及び透明電極層2がサファイア基板6上に順に形成される。アノード1とカソード7はそれぞれ透明電極層2とn型GaN層5の上に形成される。しかし、サファイア基板6は熱放散が弱く、熱伝導構造体が発光層4から離れて配置されている。従って、製造される従来のLEDは、0.3mm×0.3mmの面積を有し動作電流が20mAのLED等の小面積で低出力のLEDに限られている。] 図1
[0004] より高い照明効率とより良好な照度とが要求されているので、フリップチップ構造体を有するLED装置が高出力LED装置として、上記従来のLED装置を徐々に置き換えている。図2を参照すると、フリップチップ8の底面が発光面として機能し、フリップチップ8の上面の電極が、熱伝導構造体として機能するシリコン基板9のヒートシンク側に取り付けられる。フリップチップ8はシリコン基板9に近接しているので、熱放散効率が向上する。従って、LED装置の面積を1mm×1mmに増加させることが出来、動作電流は300又は500mAに達し、LED装置は最大1ワットの出力を有することが出来る。] 図2
[0005] 高出力LED装置は白色光灯に主に適用される。白色LED装置の製造技術は、蛍光体をパッケージする技術を通常必要とする。しかし、白色LED装置の製造工程において、蛍光体被覆は制御が難しく、不均一な白色光照度が生じ放射される白色光の色温度と座標に影響し、従って、パッケージ歩留りが減少する。このようなパッケージ欠陥は特に高出力白色LED装置に顕著である。]
課題を解決するための手段

[0006] 本発明によれば、LED装置の製造方法が提供される。本発明に係る方法は分離バッフルを使用し、LEDの発光面をボンディングワイヤ領域等のその他の領域から該ボンディングワイヤ領域上の分離バッフルにより隔て、蛍光体被覆工程で該LEDの該発光面上にだけ蛍光体を被覆する。従って、パッケージ工程で蛍光体を使用する必要がない。]
[0007] 好ましくは、前記LED装置は高出力白色LED装置である。
好ましくは、前記LED装置は、フリップチップ構造体又は垂直チップ構造体を有する。]
[0008] 本発明によれば、フリップチップ構造体を有するLED装置の製造方法が提供される。本発明に係る方法は、基部上に1つ以上のフリップチップ構造体を装着するステップと、該基部上にボンディングワイヤ領域を該1つ以上のフリップチップ構造体を囲うよう配置するステップと、該ボンディングワイヤ領域上に分離バッフルを配置して該フリップチップ構造体の発光面としての透明電極層の裏面を該ボンディングワイヤ領域から隔てるステップと、蛍光体の懸濁液を該透明電極層上に被覆するステップと、該懸濁液の溶媒を加熱により蒸発させて、該蛍光体を固化させ、蛍光体層を形成するステップと、該分離バッフルを取り去るステップと、該基部を分割して、1つのフリップチップ構造体を有する1つ以上の単一ユニットLED装置を形成するステップとを含む。]
[0009] 本発明によれば、垂直チップ構造体を有するLED装置の製造方法が提供される。本発明に係る方法は、基部上に1つ以上の垂直チップ構造体であって、該各垂直チップ構造体は該基部上に順に成膜されたp側電極、p型半導体材料層、発光層、n型半導体材料層、及び発光面として機能する透明電極層を含む1つ以上の垂直チップ構造体を装着し、該透明電極層の一部の上にボンディングワイヤ領域を配置するステップと、該ボンディングワイヤ領域上に分離バッフルを配置して、該ボンディングワイヤ領域を該透明電極層の残りの部分から隔てるステップと、蛍光体の懸濁液を該透明電極層上に被覆するステップと、該懸濁液の溶媒を加熱により蒸発させて、該蛍光体を固化させ、蛍光体層を形成するステップと、該分離バッフルを取り去るステップと、該基部を分割して、1つの垂直チップ構造体を有する1つ以上の単一ユニットLED装置を形成するステップとを含む。]
[0010] 本発明によれば、フリップチップ構造体を有するLED装置の製造方法が提供される。本発明に係る方法は、基部上に金属接合層を配置し、その上に1つ以上のフリップチップ構造体を、該金属接合層の周縁部が該1つ以上のフリップチップ構造体を囲うよう装着するステップと、該金属接合層の該周縁部上に分離バッフルを配置して、該金属接合層と反対の側の該n型半導体材料層を該金属接合層の該周縁部から隔てるステップと、蛍光体の懸濁液を該n型半導体材料層上に被覆するステップと、該懸濁液の溶媒を加熱により蒸発させて、該蛍光体を固化させ、蛍光体層を形成するステップと、該分離バッフルを取り去るステップと、該基部を分割して、1つのフリップチップ構造体を有する1つ以上の単一ユニットLED装置を形成するステップとを含む。]
[0011] 好ましくは、発光面上の蛍光体の接着を向上させるために、粗い表面を有する粗い層が前記蛍光体層と前記フリップチップ又は垂直チップ構造体との間に配置される。]
[0012] 従って、白色LED装置を蛍光体パッケージ技術を使用することなく直接製造でき、このため白色LED装置の製造工程全体が簡単化される。]
図面の簡単な説明

[0013] 従来技術に係る青色と緑色の発光ダイオードの側面図である。
従来技術に係るフリップチップ構造体を有する従来のLED装置の側面図である。
本発明に係る方法をフリップチップ構造体を有するLED装置の製造に適用した場合に使用される分離バッフルの平面図である。
図3の分離バッフルを有しフリップチップ構造体を有するLED装置の製造途中の側面図である。
本発明に係る方法を別のフリップチップ構造体を有するLED装置の製造に適用した場合に使用される分離バッフルの平面図である。
図5の分離バッフルを有し該別のフリップチップ構造体を有するLED装置の製造途中の側面図である。
本発明に係る方法を垂直チップ構造体を有するLED装置の製造に適用した場合に使用される分離バッフルの平面図である。
図7の分離バッフルを有し垂直チップ構造体を有するLED装置の製造途中の側面図である。] 図3 図5 図7
実施例

[0014] 添付の図面と実施形態により本発明を更に説明する。
本発明によれば、LED装置の発光面をボンディングワイヤ領域等の他の領域から隔てるために分離バッフルを使用し、蛍光体被覆工程で発光面上だけに蛍光体を被覆することで、蛍光体被覆の均一性を向上させ、パッケージ工程の蛍光体パッケージ技術を不要にできる。本発明はフリップチップ構造体又は垂直チップ構造体を有するLED装置の製造に適用できる。]
[0015] 図3は本発明に係る方法をフリップチップ構造体を有するLED装置の製造に適用した場合に使用される分離バッフルの平面図である。図4は図3の分離バッフルを有しフリップチップ構造体を有するLED装置の製造途中の側面図である。図4を参照すると、サファイアでできていてもよい透明基板8を有する1つ以上のフリップチップ構造体が、基部9上に、フリップチップ構造体の上面が基部9と対向した状態で装着される。基部9はシリコン、窒化アルミニウム、銅、窒化ガリウム、酸化亜鉛、及びこれらの組合せからなるグループから選択された材料でできていてよい。フリップチップ構造体の発光面として機能する透明電極層10が透明基板8の裏面上に配置される。粗い表面を有する粗い層14が透明電極層10上に選択的に配置され、蛍光体をフリップチップ構造体に被覆した時、蛍光体の接着を向上させる。或いは、粗い層14は省略可能である。ボンディングワイヤ領域13がフリップチップ構造体を囲っている。分離バッフル12がボンディングワイヤ領域13上に配置され、発光面として機能する透明電極層10をボンディングワイヤ領域13から隔てる。図3は多数のフリップチップ構造体に適用された分離バッフルの平面図である。この分離バッフルはフリップチップ構造体のサイズに一致した寸法の開口を多数有している。蛍光体の懸濁液を透明電極層10上又は粗い層14上にスピンコート又は滴下コートにより直接被覆する。懸濁液の溶媒を加熱により蒸発させると、蛍光体は固化して、蛍光体層11を形成する。蛍光体層11を形成した後、分離バッフル12を取り去る。上記のステップにより、フリップチップ構造体の発光面上に蛍光体が均一に被覆され固化される。従って、蛍光体パッケージ技術をパッケージ工程で使用することを避けることが出来る。次に、基部9は分割されて、1つのフリップチップ構造体を有する単一ユニットLED装置が得られる。] 図3 図4
[0016] 図5は本発明に係る方法を別のフリップチップ構造体を有するLED装置の製造に適用した場合に使用される分離バッフルの平面図である。図6は図5の分離バッフルを有し該別のフリップチップ構造体を有するLED装置の製造途中の側面図である。図6を参照すると、1つ以上のフリップチップ構造体が基部20上に、金属接合層21を介して装着される。基部20はシリコン、窒化アルミニウム、銅、窒化ガリウム、酸化亜鉛、及びこれらの組合せからなるグループから選択された材料でできていてよい。フリップチップ構造体は金属接合層21に対面した反射金属層22と、発光積層構造体とを含む。この発光積層構造体は、反射金属層22上に順に成膜されたp型半導体材料層23、量子井戸発光層24、及びn型半導体材料層25を含む。図6のフリップチップ構造体は図4のフリップチップ構造体と透明サファイア基板が取り除かれている点で異なる。粗い表面を有する粗い層28はn型半導体材料層25上に選択的に配置され、蛍光体をフリップチップ構造体に被覆した時、蛍光体の接着を向上させる。或いは、粗い層28は省略可能である。分離バッフル27が金属接合層21の周縁部上に配置され、発光面として機能するn型半導体材料層25を金属接合層21の周縁部から隔てる。分離バッフル27はn型半導体材料層25の平面サイズに一致した寸法の開口を多数有している。蛍光体の懸濁液を粗い層28上にスピンコート又は滴下コートにより直接被覆する。懸濁液の溶媒を加熱により蒸発させると、蛍光体は固化して、蛍光体層26を形成する。蛍光体層26を形成した後、分離バッフル27を取り去る。次に、基部20は分割されて、1つのフリップチップ構造体を有する単一ユニットLED装置が得られる。上記のステップにより、フリップチップ構造体の発光面上に蛍光体が均一に被覆され固化される。従って、蛍光体パッケージ技術をパッケージ工程で使用することを避けることが出来る。] 図4 図5 図6
[0017] 図7は本発明に係る方法を垂直チップ構造体を有するLED装置の製造に適用した場合に使用される分離バッフルの平面図である。図8は図7の分離バッフルを有し垂直チップ構造体を有するLED装置の製造途中の側面図である。図8を参照すると、垂直チップ構造体は、基部32上に順に成膜されたn側電極33、p型半導体材料層34、発光層41、n型半導体材料層35、及び透明電極層36を含む。透明電極層36は垂直チップ構造体の発光面として機能する。粗い表面を有する粗い層40が透明電極層36上に選択的に配置され、蛍光体を垂直チップ構造体に被覆した時、蛍光体の接着を向上させる。或いは、粗い層40は省略可能である。ボンディングワイヤ領域39が粗い層40の粗い表面の一部の上に配置されている。図7は基部32上に装着された多数の垂直チップ構造体に適用された分離バッフル38の平面図である。分離バッフル38は分離バッフル12及び27と各ボンディングワイヤ領域39を隔てる拡張部Aを有している点で異なる。分離バッフル38は垂直チップ構造体の発光面と形状及びサイズが一致した開口を多数有している。蛍光体の懸濁液を発光面上にスピンコート又は滴下コートにより直接被覆する。懸濁液の溶媒を加熱により蒸発させると、蛍光体は固化して、蛍光体層37を形成する。蛍光体層37を形成した後、分離バッフル38を取り去る。上記のステップにより、垂直チップ構造体の発光面上に蛍光体が均一に被覆され固化される。従って、蛍光体パッケージ技術をパッケージ工程で使用することを避けることが出来る。次に、基部32は分割されて、1つの垂直チップ構造体を有する単一ユニットLED装置が得られる。] 図7 図8
[0018] また、本発明を他のチップ構造体を有するLED装置、特に蛍光体層を有する高出力LED装置に適用することが出来る。]
[0019] 本発明によれば、分離バッフルを使用してLED装置の発光面をボンディングワイヤ領域等の他の領域から隔て、これにより蛍光体被覆工程で蛍光体を発光面上だけに被覆するので、蛍光体の均一性が向上する。白色LED装置の場合、白色光の色温度と座標の均一性を効果的に制御できる。従って、蛍光体パッケージ技術を使用することなく、白色LED装置を製造することが出来、このため白色LED装置のパッケージ工程は簡単化される。]
[0020] 8 透明基板
9 基部
10透明電極層
11蛍光体層
12分離バッフル
13ボンディングワイヤ領域
14 粗い層]
权利要求:

請求項1
LEDチップの発光面をボンディングワイヤ領域から該ボンディングワイヤ領域上の分離バッフルにより隔てるステップと、蛍光体被覆工程で該LEDチップの該発光面上に蛍光体を被覆するステップとを含むLED装置の製造方法。
請求項2
前記LED装置は高出力白色LED装置である請求項1に記載の方法。
請求項3
前記LED装置は、フリップチップ構造体又は垂直構造体を有する請求項1又は2に記載の方法。
請求項4
フリップチップ構造体を有するLED装置の製造方法であって、基部(9)上に1つ以上のフリップチップ構造体であって、該各フリップチップ構造体は透明基板(8)と、透明基板(8)の裏面に装着され該フリップチップ構造体の発光面としての透明電極層(10)とを含む1つ以上のフリップチップ構造体を装着し、該基部(9)上にボンディングワイヤ領域(13)を該1つ以上のフリップチップ構造体を囲うよう配置するステップと、蛍光体の懸濁液を該透明電極層(10)上に被覆するステップと、該懸濁液の溶媒を加熱により蒸発させて、該蛍光体を固化させ、蛍光体層(11)を形成するステップと、分離バッフル(12)を取り去るステップと、該基部(9)を分割して、1つのフリップチップ構造体を有する単一ユニットLED装置を形成するステップとを含む製造方法。
請求項5
粗い表面を有する粗い層(14)が前記透明電極層(10)と前記蛍光体層(11)との間に配置されている請求項4に記載の方法。
請求項6
前記LED装置は高出力白色LED装置である請求項4又は5に記載の方法。
請求項7
フリップチップ構造体を有するLED装置の製造方法であって、基部(20)上に金属接合層(21)を配置し、その上に1つ以上のフリップチップ構造体であって、該各フリップチップ構造体は該金属接合層(21)に対面する反射金属層(22)と、発光面としてのn型半導体材料層(25)とを含む1つ以上のフリップチップ構造体を、該金属接合層の周縁部が該1つ以上のフリップチップ構造体を囲うよう装着するステップと、該金属接合層(21)の該周縁部上に分離バッフル(27)を配置して、該n型半導体材料層(25)を該金属接合層(21)の該周縁部から隔てるステップと、蛍光体の懸濁液を該n型半導体材料層(25)上に直接被覆するステップと、該懸濁液の溶媒を加熱により蒸発させて、該蛍光体を固化させ、蛍光体層(26)を形成するステップと、該分離バッフル(27)を取り去るステップと、該基部(20)を分割して、1つのフリップチップ構造体を有する単一ユニットLED装置を形成するステップとを含む製造方法。
請求項8
粗い表面を有する粗い層(28)が前記n型半導体材料層(25)と前記蛍光体層(26)との間に配置されている請求項7に記載の方法。
請求項9
前記LED装置は高出力白色LED装置である請求項7又は8に記載の方法。
請求項10
垂直チップ構造体を有するLED装置の製造方法であって、基部(32)上に1つ以上の垂直チップ構造体であって、該各垂直チップ構造体は順に成膜されたn側電極(33)、n型半導体材料層(34)、発光層(41)、p型半導体材料層(35)、及び該垂直チップ構造体の発光面として機能する透明電極層(36)を含む1つ以上の垂直チップ構造体を装着し、該透明電極層(36)の一部の上にボンディングワイヤ領域(39)を配置するステップと、該ボンディングワイヤ領域(39)上に分離バッフル(38)を配置して、該ボンディングワイヤ領域(39)を該透明電極層(36)の残りの部分から隔てるステップと、蛍光体の懸濁液を該透明電極層(36)上に直接被覆するステップと、該懸濁液の溶媒を加熱により蒸発させて、該蛍光体を固化させ、蛍光体層(37)を形成するステップと、該分離バッフル(38)を取り去るステップと、該基部(32)を分割して、1つの垂直チップ構造体を有する単一ユニットLED装置を形成するステップとを含む製造方法。
請求項11
粗い表面を有する粗い層(40)が前記透明電極層(36)と前記蛍光体層(37)との間に配置されている請求項10に記載の方法。
請求項12
前記LED装置は高出力白色LED装置である請求項10又は11に記載の方法。
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CN107946441A|2016-10-12|2018-04-20|亿光电子工业股份有限公司|发光装置及发光二极管封装结构|
法律状态:
2011-05-26| A521| Written amendment|Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110525 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110525 |
2011-05-26| A621| Written request for application examination|Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110525 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110525 |
2012-10-10| A977| Report on retrieval|Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20121010 |
2012-10-17| A131| Notification of reasons for refusal|Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121016 |
2013-03-13| A02| Decision of refusal|Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20130312 |
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